競賽說明

本中心希望藉由此國際論壇提升台灣電漿技術發展及薄膜科技成果之國際能見度，促進國際學術交流與國民外交活動，本次國際論壇的議程包含開幕典禮、特邀專題演講、海報論文徵稿、論文海報展示與競賽，亦有歡迎晚宴及參訪等社交活動；此外本次論壇中本中心亦將與多個國際研究中心進行合作備忘錄(MoU)之續簽儀式。本國際電漿與鍍膜論壇將提供一個國際交流平台，促進國內外之高科技產業技術發展及電漿在各領域的發展與應用，希望可提供國內外從電漿技術開發、真空工程及鍍膜技術相關研究發展工作的交流機會，有利於我國電漿科技、真空與相關鍍膜製程產業之發展，及相關產業整合技術的掌握。評分項目將分為海報內容(40%)、研究成果(20%)、版面設計(10%)、與現場答詢(30%)兩部分。

獲獎事蹟說明

這次我參加的組別是P03 HiPIMS及濺鍍薄膜組別，海報使用以英文發表，評審委員進行現場海報的評分。

學生獲獎感言

這次是我第一次參加2023年用於永續發展目標的電漿及薄膜科技國際論壇，很榮幸能參加這個會議。感謝指導教授辛苦的指導，也感謝評審委員對我研究的肯定，未來也會持續研究，最後感謝工作人員的協助，舉辦了一個盛大的會議。沒有大家的付出，這場研討會也不會順利進行，我也更不會得到佳作，希望未來還有機會能再次參加競賽。