106/6/12薄膜製程成果展覽
最後更新日期 :
2018-08-06
獲獎名單:
第一名:U0318C003吳冠辰、U0318C030鄧宥澧 反應性磁控濺鍍系統Cu3N薄膜及其光電性質研究
第二名:U0318C007林上庭、U0318C029鄧杰宗 利用低壓化學氣相沉積法製備高品質石墨烯
第三名:U0318C020陳啟元、U0318C013張耕綸 添加氮氣對於六甲基二矽氧烷電漿聚合製程之影響
佳 作:U0318C002石皓頻、U0318C010高建立 利用低壓化學氣相沉積法製備高品質石墨烯
瀏覽數:
分享