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106/6/12薄膜製程成果展覽

獲獎名單:

第一名:U0318C003吳冠辰、U0318C030鄧宥澧  反應性磁控濺鍍系統Cu3N薄膜及其光電性質研究

第二名:U0318C007林上庭、U0318C029鄧杰宗  利用低壓化學氣相沉積法製備高品質石墨烯

第三名:U0318C020陳啟元、U0318C013張耕綸  添加氮氣對於六甲基二矽氧烷電漿聚合製程之影響

佳    作:U0318C002石皓頻、U0318C010高建立  利用低壓化學氣相沉積法製備高品質石墨烯

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